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2026上海半導(dǎo)體展會(huì)展商如何選擇

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  • 來源:SEMI
  • 2025-05-21 13:59
  • 行業(yè):半導(dǎo)體
  •       2026年3月25日至27日,第28屆上海國(guó)際半導(dǎo)體展覽會(huì)(SEMICON China 2026)將在上海新國(guó)際博覽中心盛大舉辦。對(duì)于參展商和采購(gòu)商而言,如何高效選擇目標(biāo)展商,既是把握市場(chǎng)機(jī)遇的關(guān)鍵,也是推動(dòng)產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展的核心。以下從產(chǎn)業(yè)鏈定位、技術(shù)亮點(diǎn)、展商名錄分析及選擇策略四大維度,為行業(yè)提供提供參考。


    一、產(chǎn)業(yè)鏈定位:明確核心需求,鎖定目標(biāo)展商

    本屆展會(huì)以“智鏈芯生態(tài)·共塑未來”為主題,展區(qū)劃分為六大核心板塊:

    1.芯片設(shè)計(jì)與制造

    國(guó)際巨頭:臺(tái)積電(TSMC)、三星電子(Samsung)、英特爾(Intel)等,展示先進(jìn)制程技術(shù)及芯片制造解決方案。

    國(guó)產(chǎn)替代先鋒:中芯國(guó)際(SMIC)、長(zhǎng)江存儲(chǔ)(YMTC),聚焦14nm以下工藝節(jié)點(diǎn)及3D NAND閃存技術(shù)。

    2.設(shè)備與材料

    設(shè)備巨頭:ASML(極紫外光刻EUV設(shè)備)、應(yīng)用材料(Applied Materials,薄膜沉積與刻蝕方案)、東京電子(TEL,涂膠顯影設(shè)備)。

    國(guó)產(chǎn)創(chuàng)新力量:中微公司(刻蝕設(shè)備Primo Halona)、北方華創(chuàng)(離子注入機(jī)Sirius MC 313)、新凱來(5nm光刻設(shè)備“阿里山”)。

    3.封測(cè)與應(yīng)用

    封測(cè)龍頭:華天科技、長(zhǎng)電科技(先進(jìn)封裝技術(shù))。

    應(yīng)用場(chǎng)景:AI芯片、車規(guī)級(jí)芯片、第三代半導(dǎo)體(碳化硅、氮化鎵)等領(lǐng)域的頭部企業(yè)。


    選擇建議

    • 設(shè)備采購(gòu)方:優(yōu)先關(guān)注ASML(展位E6-3339)、中微公司(E6-3451)、新凱來(N2-2116)等企業(yè),其技術(shù)已突破國(guó)際壟斷。
    • 材料供應(yīng)商:可對(duì)接杜邦、信越化學(xué)(高純度硅片)、普興電子(碳化硅外延材料)。
    • 技術(shù)合作需求:重點(diǎn)關(guān)注國(guó)產(chǎn)設(shè)備廠商如中微公司、新凱來,其技術(shù)已突破國(guó)際壟斷。


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    二、技術(shù)亮點(diǎn):聚焦前沿趨勢(shì),捕捉創(chuàng)新突破

    本屆展會(huì)的展商名單中,多項(xiàng)技術(shù)突破成為焦點(diǎn):

    1. 光刻技術(shù):ASML展出0.33NA EUV光刻機(jī),助力2nm芯片量產(chǎn)。新凱來憑借5nm光刻設(shè)備“阿里山”,引發(fā)外媒熱議,其多重曝光技術(shù)將芯片成本降低20%。
    2. 刻蝕與薄膜沉積:中微公司推出雙反應(yīng)臺(tái)12英寸刻蝕設(shè)備,精度達(dá)亞埃級(jí)。北方華創(chuàng)首次展示12英寸電鍍?cè)O(shè)備Ausip T830,填補(bǔ)國(guó)內(nèi)高端市場(chǎng)空白。
    3. 第三代半導(dǎo)體:優(yōu)晶科技(碳化硅長(zhǎng)晶設(shè)備)、芯三代(碳化硅外延設(shè)備)等企業(yè),推動(dòng)SiC功率器件國(guó)產(chǎn)化。大族半導(dǎo)體的激光剝離設(shè)備,加速碳化硅器件量產(chǎn)進(jìn)程。


    選擇策略

    • 技術(shù)導(dǎo)向型買家:可重點(diǎn)考察ASML、中微公司、新凱來等展商的前沿設(shè)備。
    • 應(yīng)用場(chǎng)景需求:關(guān)注華為、地平線等企業(yè)帶來的AI芯片、車規(guī)級(jí)芯片解決方案。


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    三、展商名錄分析:從國(guó)際巨頭到本土新銳

    根據(jù)展會(huì)官方公布的參展商名單,以下企業(yè)值得關(guān)注:

    1. 國(guó)際標(biāo)桿企業(yè):

    ASML(E6-3339):EUV光刻設(shè)備,0.33NA技術(shù)引領(lǐng)先進(jìn)制程。

    東京電子(E6-3465):涂膠顯影設(shè)備,覆蓋AI芯片制造全流程。

    應(yīng)用材料(E6-3123):薄膜沉積與刻蝕解決方案,全球領(lǐng)先。

    1. 國(guó)產(chǎn)創(chuàng)新代表:

    新凱來(N2-2116):“五岳三山”系列設(shè)備對(duì)標(biāo)國(guó)際巨頭,2nm刻蝕機(jī)技術(shù)領(lǐng)先。

    中微公司(E6-3451):刻蝕設(shè)備精度達(dá)亞埃級(jí),多款A(yù)LD薄膜設(shè)備亮相。

    北方華創(chuàng)(E6-3441):12英寸離子注入機(jī)Sirius MC 313打破國(guó)際壟斷。

    1. 材料與設(shè)備:

    新銳普興電子(N3-3471):碳化硅外延材料,助力第三代半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化。

    華卓精科(N2-2461):晶圓鍵合設(shè)備,納米級(jí)精度服務(wù)先進(jìn)封裝。


    選擇技巧

    • 國(guó)際采購(gòu):優(yōu)先聯(lián)系A(chǔ)SML、東京電子等企業(yè),獲取最新設(shè)備參數(shù)。
    • 國(guó)產(chǎn)替代需求:重點(diǎn)關(guān)注新凱來、中微公司等本土企業(yè),評(píng)估其技術(shù)成熟度與產(chǎn)能。


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    四、選擇策略:從展位布局到商務(wù)合作

    1. 展位位置與布局

    核心區(qū)域:E6館集中了ASML、應(yīng)用材料、東京電子等國(guó)際巨頭,人流密集。

    國(guó)產(chǎn)設(shè)備區(qū):N2館聚集新凱來、中微公司、華卓精科,便于集中考察。

    1. 商務(wù)配對(duì)服務(wù)

    主辦方提供:通過“商貿(mào)配對(duì)”平臺(tái),提前預(yù)約潛在客戶,提升洽談效率。

    同期論壇:參與“全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)戰(zhàn)略峰會(huì)”“汽車芯片論壇”等活動(dòng),與行業(yè)領(lǐng)袖面對(duì)面交流。


    2026上海半導(dǎo)體展覽會(huì)不僅是企業(yè)展示技術(shù)實(shí)力的舞臺(tái),更是產(chǎn)業(yè)鏈上下游深度對(duì)接的樞紐。無論是國(guó)際巨頭的前沿設(shè)備,還是國(guó)產(chǎn)企業(yè)的技術(shù)突圍,展商的選擇需緊密結(jié)合自身需求與行業(yè)趨勢(shì)。提前規(guī)劃行程、精準(zhǔn)鎖定目標(biāo)展商,將為參展商帶來最大化的市場(chǎng)機(jī)遇與合作價(jià)值。


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    相關(guān)標(biāo)簽: 上海半導(dǎo)體展會(huì)
    電話:18067918499(展位預(yù)定/會(huì)刊/門票)
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